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世华科技:出资约 22 亿元建造高性能光学材料制作基地项目

作者:开运网站登录入口    发布时间:2025-02-17 11:51:19    浏览量:

  金融界12月5日音讯,世华科技公告称,根据公司的战略发展规划,为加强完善在高性能光学材料范畴的产业布局,拟在苏州市吴江经济技术开发区出资建造“高性能光学材料制作基地项目”。项目方案出资总额约 22 亿元,其间固定财物出资约 15 亿元,铺底流动资金约 7 亿元。财物金额来历为公司自有或自筹资金。估计项目开端施工后建造期 3 - 5 年。本出资项目现已公司第三届董事会第四次会议、第三届监事会第四次会议审议经过,需要提交股东大会审议。本次出资触及购买国有土地使用权等危险,存在多项不确定性。

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